美光台湾厂成立研发专项为1γ制程EUV热身

美光中科厂将在2022年底量产1β节点制程，而A3厂也将于下半年正式导入第一台极紫外光曝光设备(EUV)入厂，为2024年推向1γ的EUV量产准备。 在考虑到全球生产布局下，规划1β节点将先在日本投产，并于2022年底转移至台湾地区进行量产，目前处于良率爬升阶段，并采用先进COMS制程设备，采取多重曝光制程，并将用于量产DDR5、LPDDR5以及拓展至HBM3、车用及绘图应用领域。根据规划，采用EUV设备的1γ制程将于2024年进入量产，但台中A3厂将提前设置1γ研发专项的专门团队。